Редактирование: Кафедра Физических проблем материаловедения (09)
Материал из Энциклопедия МИФИ
Энциклопедия МИФИ > Кафедра Физических проблем материаловедения (09)
В настоящий момент редактируют:
ожидание обновления... (нажмите здесь или начните редактирование)
Примечание: изменения этой страницы будут включены в стабильную версию, когда они будут досмотрены пользователем с соответствующими правами.
Внимание: Вы не представились системе. Ваш IP-адрес будет записан в историю изменений этой страницы.
Правка может быть отменена. Пожалуйста, просмотрите сравнение версий, чтобы убедиться, что это именно те изменения, которые вас интересуют, и нажмите «Записать страницу», чтобы изменения вступили в силу.
Текущая версия | Ваш текст | ||
Строка 130: | Строка 130: | ||
Основная часть кафедры находится на 1-м этаже Б корпуса. Там расположены учебные аудитории, часть лабораторий. | Основная часть кафедры находится на 1-м этаже Б корпуса. Там расположены учебные аудитории, часть лабораторий. | ||
В подвале Б-корпуса расположены установка обработки материалов высокотемпературной импульсной плазмой Десна-М, просвечивающие и растровые электронные микроскопы. | В подвале Б-корпуса расположены установка обработки материалов высокотемпературной импульсной плазмой Десна-М, просвечивающие и растровые электронные микроскопы. | ||
- | Кафедра занимает часть Д корпуса: часть 1-го этажа и подвала занимают лаборатории керамографии, термического исследования | + | Кафедра занимает часть Д корпуса: часть 1-го этажа и подвала занимают лаборатории керамографии, термического исследования, вакуумные и дуговые печи в составе подразделения ОНИЛ-709. |
Чердак Д корпуса занят линейным ускорителем для исследования полупроводниковых материалов. | Чердак Д корпуса занят линейным ускорителем для исследования полупроводниковых материалов. | ||
Небольшую часть Т корпуса (подвал) занимает лаборатория с дуговыми печами. | Небольшую часть Т корпуса (подвал) занимает лаборатория с дуговыми печами. |